晶圓分子束外延所使用的樣品為2-4英寸晶圓。為了保證成膜的均勻性，在生長過程中樣品可連續旋轉。加熱器采用內外層分別加熱和控溫，保證良好的均勻性。這種MBE主要用于對樣品尺寸有一定要求的，面向工業應用的生產和研發。
● 加熱器為內外環加熱，溫度一致性好
● 樣品連續旋轉，蒸鍍均勻
● 操作方便，可快速學會使用
● 可靠性好，能保證長時間穩定工作
● 配件、材料選擇考究保證極低的本底真空
△ 可定制功能：
● 腔體結構、傳樣機構，泵組、真空規及其品牌型號
● 樣品尺寸
● 樣品操作臺行程
● 蒸發源口徑、溫度、加熱方式和數量
● 快速進樣室進樣和存樣機構的樣品數量
● 可擴展反射式高能電子衍射儀、紅外測溫儀、膜厚儀、氣源等
● 程序控制功能
● 腔體可做無磁處理
晶圓分子束外延系統（Wafer MBE）
